La linea si avvale di un ampio parco strumentale per la deposizione di film sottili costituito da tre diversi sistemi PVD (Physical Vapor Deposition) Magnetron Sputtering: a) un sistema multi-magnetron confocale, b) un sistema multi-magnetron multi-layer, che possono entrambi lavorare sia in modalità DC- sia RF- Magnetron Sputtering (DC-MS e RF-MS), e c) un innovativo sistema High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS).

Con la tecnica HiPIMS, grazie agli impulsi di elevata potenza (dell'ordine del kW⋅cm^-2), è possibile produrre un plasma ultra-denso che porta a gradi di ionizzazione del materiale emesso dal target molto più elevati di quanto è possibile ottenere con tecniche PVD convenzionali. Le particolari condizioni di plasma consentono di regolare il flusso energetico delle specie ionizzate in arrivo sul rivestimento in crescita nel corso della deposizione. Il flusso energetico disponibile al substrato è una caratteristica fondamentale perché è in relazione al trasferimento di momento e permette di regolare la mobilità degli adatomi e, quindi, la microstruttura del film. È possibile lavorare sia in modalità non reattiva, sia reattiva per la produzione di ossidi, nitruri e carburi. Il sistema HiPIMS può lavorare in configurazione ibrida abbinando HiPIMS con DC pulsato.
I principali vantaggi della tecnica HiPIMS includono la possibilità di ottenere film ultra-densi, molto planari, con un aumentato valore del rapporto H/E, maggiormente aderenti e con un maggior controllo della microstruttura e, quindi, delle proprietà.

I principali vantaggi dell'HIPIMS sono:

1. la possibilità di migliorare notevolmente l’adesione tramite un pretrattamento della superficie del substrato prima della deposizione;
2. la deposizione di film ultra densi, con microstrutture altamente controllate, con un aumentato rapporto durezza/modulo di Young rispetto ai rivestimenti PVD convenzionali;
3. morfologia superficiale particolarmente liscia;
4. possibilità di deposizione con proprietà uniformi anche su substrati di forma complesse.

L'apparato HIPIMS è impiegato nello sviluppo di rivestimenti protettivi per componenti che devono operare in condizioni critiche, tra cui:

• Rivestimenti Mo e Mo/Mo-N aventi basso coefficiente di attrito ed elevatissima resistenza all'usura per un motore a combustione interna (Fig. 4, Fig. 5)
• Rivestimenti a base AlTiN resistenti alla tribo-corrosione ad elevate temperature (es. palettatura di turbine a gas per applicazioni aeronautiche) (Fig. 6)
• Rivestimenti di alluminuri e metalli refrattari per applicazioni in ambito nucleare (fusione e fissione) (Fig. 7/A, Fig. 7/B)